Sistema di preparazione di campione automatico ArBlade 5000

per SEMper fresatura a fascio ionico

Il sistema a fascio ionico largo più avanzato per la produzione di campioni di sezione trasversale o di fresatura piana di eccezionale qualità per la microscopia elettronica. ArBlade 5000 è dotato di un cannone ionico Ar a fresatura rapida con una velocità di fresatura doppia per prestazioni all'avanguardia, riducendo così drasticamente i tempi di lavorazione per la preparazione delle sezioni trasversali. *l'1Si sporge di 100 um dal bordo della maschera. Confronto tra la fresatura di sezioni trasversali (Campione: piombo per matita meccanica, tempo di fresatura: 1,5 ore) Larghezza della sezione trasversale fino a 8 mm! Per le esigenze di fresatura di grandi superfici, come le applicazioni per dispositivi elettronici, è stato sviluppato un rivoluzionario supporto di fresatura a sezione trasversale per la fabbricazione di superfici più ampie. Esempio di fresatura di sezioni trasversali ad ampio raggio (Campione: componente elettronico, tempo di fresatura: 5 ore) Modello ibrido: Configurazione a doppia fresatura disponibile Il nuovo sistema di fresatura ionica è dotato sia di modalità di fresatura di sezioni trasversali che di modalità di fresatura piana per le esigenze applicative più complesse. Dotato di più supporti, il sistema ArBlade 5000 è in grado di soddisfare un'ampia gamma di applicazioni. Fresatura a sezione trasversale Utilizzata per produrre sezioni trasversali più ampie e non distorte senza applicare sollecitazioni meccaniche al campione Fresatura in piano Utilizzata per rimuovere gli artefatti dello strato superficiale e per la lucidatura finale dopo le tradizionali tecniche di lucidatura meccanica. Le versioni criogeniche di ArBlade 5000 prevedono il raffreddamento attivo dello stadio di fresatura della sezione trasversale durante la lavorazione del campione. Un dewar di azoto liquido integrato collegato allo stadio di sezione trasversale rimuove efficacemente il calore indotto durante la fresatura a fascio ionico dalla maschera di schermatura e dal campione.