Controllore di pressione di gas GR-300

La serie GR-300 può controllare i gas utilizzati per raffreddare il lato posteriore dei wafer fissati in posizione da un sistema di mandrini elettrostatici. La stabilità e la precisione del GR-300 lo rendono ideale per controllare il flusso di Elio e Argon nei sistemi di raffreddamento dei wafer. Controllo della pressione con maggiore stabilità e precisione Sensore di portata massica (opzione) Compatibile con vari raccordi Conformità alla direttiva RoHS Nell'esempio seguente, la serie GR-300 controlla i gas utilizzati per raffreddare il lato posteriore dei wafer fissati in posizione da un sistema di mandrini elettrostatici.