Sistema di metrologia per wafer MESO™

per semiconduttori

Soluzione metrologica MESO Il sistema di metrologia MESO è una soluzione unica per molte sfide della metrologia ottica. Le misure in officina assicurano il controllo di qualità e il controllo di processo in situ delle vostre ottiche piane, proprio accanto alla linea di produzione. Uno strumento unico nel suo genere permette di misurare a diverse lunghezze d'onda senza abbassamenti cromatici e di caratterizzare l'intera gamma di ottiche senza perdita di risoluzione. MESO™ è ricco di innovazioni: - Risoluzione del rilevamento del fronte d'onda LIFT potenziata - Procedura POP in attesa di brevetto per il collaudo di ottiche parallele (sottili) al piano - La tecnologia proprietaria Spot Tracker™ fornisce una misura assoluta dell'inclinazione e del fronte d'onda. CARATTERISTICHE CHIAVE Insensibile alle vibrazioni Test di lunghezza d'onda a progetto Insensibile alle riflessioni dalla superficie posteriore del campione APPLICAZIONI MESO è lo strumento di prova perfetto per il controllo di: Ottica parallela Schermi Filtri, dicroici Specchi Specchi Finestre Substrati Cubi angolari Cristalli Aste, dischi Wafer di vetro Espositori Superfici lavorate Parabrezza Prismi Lenti di grandi dimensioni Sistemi ottici Espansori di fascio sPECIFICHE CHIAVE del sistema metrologico MESO Integrazione orizzontale o verticale Zoom ottico da 1,5'' (38,1 mm) a 6'' (152 mm) Lunghezza d'onda di test da 405 nm a 820 nm risoluzione di 680 x 500 punti di fase tempo di acquisizione minimo di 27 secondi CARATTERISTICHE FONDAMENTALI Controllo con interfaccia touchscreen Procedure di test scriptate che guidano l'utente attraverso tutti i passaggi Controllo automatizzato di un massimo di 4 lunghezze d'onda incorporate Controllo automatico del diametro del test Rapporto di prova completo e automatizzato Conformità allo standard ISO10110 Esportazione di dati multiformato