Piastra di posizionamento XY XY-OF-300x300J

rotativaa motoreelettrica

Descrizione
Piattaforma XY rotante a telaio aperto, profilo basso, progettata per la movimentazione di wafer e il posizionamento automatico di precisione nell'industria dei semiconduttori. Meccanismo di azionamento XY montato lateralmente e ampio foro centrale sulla tavola rotante per accesso senza ostacoli al wafer da entrambi i lati. Sistema configurabile con aperture e corse differenziate.

Specifiche principali

• Modello stadio XY: XY-OF-300x300J
• Modello stadio rotante: ACR-335UT
• Apertura: 335 mm
• Corsa (X × Y): 300 × 300 mm
• Rotazione: illimitata
• Risoluzione lineare: standard 5 µm; opzionale 1 µm (con encoder lineare)
• Risoluzione rotativa: 1 arc-sec
• Capacità di carico: 20 kg
• Centro aperto (through hole): 20 mm
• Velocità: fino a 40 m/s (stepper), fino a 80 m/s (servo)
• Velocità angolare: 100 rpm
• Trasmissione (XY): viti a sfere
• Trasmissione (rotante): direct drive
• Opzioni motore: stepper, servo, con encoder

Prestazioni e opzioni

• Posizionamento ad alta precisione con encoder lineare opzionale da 1 µm
• Rotazione illimitata con risoluzione 1 arc-sec per allineamenti angolari fini
• Configurazioni motore/trasmissione selezionabili in base a esigenze di velocità o coppia
• Aperture e corse personalizzabili per adattarsi a diverse dimensioni di wafer e utensili di processo

Applicazioni

• Movimentazione wafer e allineamento per litografia in ambienti di produzione
• Assemblaggio di precisione, ispezione e metrologia
• Attrezzature automatiche di pick-and-place e collaudo

Informazioni per l'ordine
La configurazione standard include i modelli e le trasmissioni elencati. Contattare il fornitore per aperture personalizzate, corse, opzioni encoder e supporto di integrazione.