Sorgente di plasma per trattamenti di superficie BS-80011BPG

La sorgente di plasma è incorporata in una camera a vuoto e genera plasma ad alta densità. La sorgente di plasma può essere utilizzata per la deposizione assistita da plasma (placcatura ionica) ed è possibile migliorare le proprietà dei film per film sottili ottici, film protettivi e film funzionali. Può anche essere utilizzata per trattamenti al plasma come la pulizia e la modifica della superficie. Caratteristiche Il plasma a bassa tensione e grande corrente consente di ionizzare ed eccitare le molecole di gas e le particelle evaporate. È possibile la deposizione reattiva, particolarmente adatta per la promozione dell'ossidazione del film. Il plasma ad alta densità può essere generato in uno spazio di massa, consentendo così una deposizione ad alta velocità su un'ampia area. È possibile l'adattamento a una camera da vuoto esistente. Effetto Miglioramento della densità del film e dell'indice di rifrazione Produzione di film stabili dal punto di vista ambientale Basso spostamento della lunghezza d'onda Basso assorbimento ottico (promozione dell'ossidazione del film) Miglioramento dell'adesione del film Miglioramento della rugosità superficiale Controllo dello stress del film Specifiche tecniche Potenza massima del plasma ： 6kW (160V, 38A) Pressione di esercizio: da 1×10-2 a 1×10-1Pa (atmosfera Ar, O2, N2) Gas di scarico (Ar): da 8 a 20 ml/min Acqua di raffreddamento: da 7 a 10 l/min Metodo del fascio: selezionabile tra fascio a riflessione e fascio a irraggiamento