Bagni di scuotimento reciproci precisi controllati da microprocessore
"Bagno di scuotimento unitronico alternativo" e con refrigerazione
"Bagno di scuotimento unitronico alternativo C"
BAGNO DI SCUOTIMENTO UNITRONICO ALTERNATIVO LINEARE: RANGE DI TEMPERATURA DA +5°C A 99,9°C.
BAGNO DI SCUOTIMENTO UNITRONICO ALTERNATIVO C LINEARE: RANGE DI TEMPERATURA DA 0°C A 99,9°C.
STABILITÀ ±0,05 °C OMOGENEITÀ ±0,1 °C, TEMPERATURA IMPOSTATA. ERRORE ±1°C, RISOLUZIONE 0,1°C.
APPLICAZIONI
Colture cellulari e campioni biologici, lieviti e applicazioni generali che richiedono temperature stabili e riproducibili.
CARATTERISTICHE COMUNI
Vassoio scorrevole a movimento lineare da 10 a 100 oscillazioni al minuto, con una lunghezza di corsa variabile di 32 o 46 mm.
Visualizzazione digitale e selezione di temperatura, oscillazioni e tempo.
Sensore di temperatura: Pt100 termoresistente. Supporto del telaio del rack in acciaio inox AISI 304 incorporato nella vasca che può ospitare una selezione di fiaschi e rack.
Vasca interna in acciaio inox AISI 304 con cassa esterna in acciaio inox AISI 304. Rubinetto di scarico incorporato.
Compressore ventilato a tenuta ermetica per la refrigerazione nel "Unitronic - C".
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