Servizio di deposizione sottovuoto

Ramtech ha sviluppato un catodo RAM da utilizzare nel metodo di sputtering a quattro facce, che consente la deposizione di film sottili di alta qualità. Il catodo RAM è caratterizzato da un basso grado di danneggiamento, da una deposizione a bassa temperatura e da una superficie liscia con pochi fori di spillo e altri difetti. Il catodo RAM è utilizzato in vari campi, come le celle solari a perovskite e gli OLED. La nostra sala di laboratorio è dotata di un sistema di sputtering a cluster con catodo RAM ed è disponibile per test di deposizione su substrati forniti dai nostri clienti. Ottenere uno sputtering a basso danno Nel metodo convenzionale di sputtering su piastra piana, il flusso di sputtering e l'argon di rinculo dal bersaglio si scontrano direttamente con il substrato, causando danni molto ingenti durante la deposizione. Depositando il film con un catodo RAM, il flusso non colpisce direttamente il substrato e il flusso di sputtering viene fatto piovere in modo uniforme, per cui il film può essere depositato con danni minimi. È possibile la deposizione di film sottili di alta qualità I flussi di sputtering sparsi da bersagli opposti si scontrano tra loro, favorendo l'affinamento del flusso di sputtering. La deposizione uniforme del flusso fine determina una superficie liscia e la formazione di un film senza pochi fori di spillo. Realizzazione di un'elevata copertura del gradino Nello sputtering convenzionale, la superficie parallela al bersaglio è la superficie di deposizione principale. Modificando le condizioni di deposizione del film con il catodo RAM e utilizzando il flusso di sputtering sparso in diagonale, è possibile ottenere una deposizione efficace sulla superficie laterale con uno spessore >85% (rispetto allo spessore del film). Il catodo RAM può essere utilizzato in un'ampia gamma di processi a seconda delle condizioni.