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Macchina di ispezione ottica Candela® 8420
di superficieautomatizzatadi difetto di superficie

Macchina di ispezione ottica - Candela® 8420 - KLA Corporation - di superficie / automatizzata / di difetto di superficie
Macchina di ispezione ottica - Candela® 8420 - KLA Corporation - di superficie / automatizzata / di difetto di superficie
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Caratteristiche

Tecnologia
ottica
Applicazioni
di superficie
Altre caratteristiche
automatizzata, di difetto di superficie

Descrizione

Il sistema di ispezione dei difetti superficiali Candela® 8420 utilizza il rilevamento multicanale e il binning dei difetti basato su regole per fornire il rilevamento di particelle e graffi su wafer opachi, traslucidi e trasparenti come arseniuro di gallio (GaAs), fosfuro di indio (InP), tantalato di litio, niobato di litio, vetro, zaffiro e altri materiali semiconduttori composti. Questo sistema di ispezione dei difetti superficiali impiega l'architettura proprietaria OSA (analizzatore ottico di superficie) per misurare simultaneamente l'intensità di dispersione, le variazioni topografiche, la riflettività superficiale e lo spostamento di fase per il rilevamento automatico e la classificazione di un'ampia gamma di difetti di interesse (DOI). La copertura dell'intera superficie è ottenuta in pochi minuti, con il sistema di ispezione dei difetti superficiali Candela 8420 per produrre immagini ad alta risoluzione e rapporti di ispezione automatizzati con classificazione dei difetti e mappe del wafer. Questo strumento offre una maggiore sensibilità rispetto alle tecnologie a canale singolo. La configurazione Candela CS20R utilizza ottiche ottimizzate per l'ispezione di materiali semiconduttori composti, compresi i film fotosensibili. Controllo della qualità dei substrati, confronto dei fornitori di substrati, controllo della qualità dei wafer in ingresso (IQC), controllo della qualità dei wafer in uscita (IQC), controllo del processo CMP (processo chimico-meccanico) / lucidatura, controllo del processo di pulizia dei wafer, controllo del processo di epitassia, correlazione tra substrato ed epitassia, confronto dei fornitori di reattori di epitassia, monitoraggio degli strumenti di processo. Rileva i difetti superficiali su materiali semiconduttori composti opachi, traslucidi e trasparenti fino a 200 mm di diametro La modalità manuale supporta la scansione di wafer parziali Supporta un'ampia gamma di spessori di wafer

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Cataloghi

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* I prezzi non includono tasse, spese di consegna, dazi doganali, né eventuali costi d'installazione o di attivazione. I prezzi vengono proposti a titolo indicativo e possono subire modifiche in base al Paese, al prezzo stesso delle materie prime e al tasso di cambio.