Come massimizzare il through-put senza compromettere il rendimento.
Un mezzo semplice per aumentare il through-put di un utensile senza influire sulla resa è quello di aumentare la velocità di qualsiasi passo non correlato alla formazione effettiva del circuito dei semiconduttori. Uno di questi passaggi è la ri-pressurizzazione o "venting" della camera di blocco del carico, che crea un ambiente a pressione positiva che inibisce la migrazione delle particelle dalla camera bianca alla camera bianca.
La sfida: Pressurizzare senza particelle di disturbo
La camera è un ambiente contaminato e la pressurizzazione può disturbare le particelle contenute al suo interno, facendole cadere sulla superficie del wafer. La sfida è quella di pressurizzare il più velocemente possibile, ma senza creare getti di gas che possono disturbare le particelle.
La soluzione: Diffusori Mott GasShield® POU (punto di utilizzo)
Il metallo poroso di Mott può notevolmente ridurre "vent" tempo della serratura del carico senza l'effetto avverso "jet" visto attraverso soffioni doccia e semplici linee di ingresso 1/4". Il metallo poroso riduce la velocità del gas di lavaggio per garantire un flusso uniforme e laminare del gas nella camera.
Le alternative al diffusore Mott creano flussi con uno o più getti di gas, eventualmente non laminari. I nostri diffusori, a titolo di confronto, sono stati testati per una velocità di flusso uniforme fino a ±5% su tutta la superficie.
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