Sistema di litografia per l'industria dei semiconduttori JetStep® G35

Sistema di litografia per l'industria dei semiconduttori - JetStep® G35 - Onto Innovation Inc.
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Caratteristiche

Tipo
per l'industria dei semiconduttori

Descrizione

Progettato per la flessibilità, il sistema JetStep® G35 utilizza una famiglia di lenti di proiezione ad alte prestazioni per consentire immagini ad alta risoluzione per i produttori di schermi piatti. Panoramica del prodotto Il sistema Jetstep G35 è un sistema di imaging per la produzione di alti volumi per display fino alla generazione 3,5. Il sistema JetStep G35 consente l'acquisizione di immagini ad alta risoluzione fino a 1,5 µm, con la precisione di registrazione e cucitura richiesta dalla produzione più avanzata di display ad alta risoluzione. Applicazioni - LCD - TFT - AMOLED - Micro-LED Specifiche tecniche - Lente di proiezione e sistema di illuminazione ad alta fedeltà per una risoluzione di 1,5 µm - Formato del reticolo standard del settore da 6 pollici per una produzione efficiente dal punto di vista dei costi - Controllo automatico dell'ingrandimento per aumentare la finestra di processo - Sistema di gestione del reticolo a bordo per garantire il massimo utilizzo - Pacchetto metrologico a bordo per la calibrazione in situ - Messa a fuoco automatica al volo in ogni sito di esposizione per regolare automaticamente la messa a fuoco in base alla topologia del pannello - Diagnostica a bordo che fornisce un feedback sulle prestazioni del sistema e sulla risoluzione dei problemi

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