Spettrometro ottico AirSentry® II AMC
di mobilità ionicadi processodi monitoraggio

Spettrometro ottico - AirSentry® II AMC - Particle Measuring Systems - di mobilità ionica / di processo / di monitoraggio
Spettrometro ottico - AirSentry® II AMC - Particle Measuring Systems - di mobilità ionica / di processo / di monitoraggio
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Caratteristiche

Tipo
ottico, di mobilità ionica
Settore
di processo, di monitoraggio, di acquisizione dati, per l'industria dei semiconduttori, per l'industria elettronica
Configurazione
compatto, mobile
Altre caratteristiche
ad alta sensibilità

Descrizione

Spettrometria di mobilità ionica per punto d’uso AirSentry® II La linea di spettrometri di mobilità ionica AirSentry II rileva e avverte gli utenti della presenza di piccole concentrazioni o variazioni nei livelli aerodispersi di cloruri, acidi, ammine e specie contenenti ammoniaca. Con una sensibilità a livello di parti per trilione (ppt), questi sensori per punti d’uso forniscono una risposta rapida, una migliore selettività di rilevamento e prestazioni ripetibili. L’abbinamento di sensori Air Sentry II a una piattaforma software centralizzata consente una facile acquisizione e analisi dei dati. La linea di sensori AirSentry II fornisce dati continui attuabili, per una risposta efficiente alle sorgenti e agli eventi di contaminazione.. Rilevamento ad alta sensibilità di acidi e alcali (ammine, ammoniaca e cloruri) Configurazione versatile dei prodotti per applicazioni per punto d’uso, multipunto e monitoraggio mobile Dimensioni compatte che semplificano la ricollocazione Uscite Ethernet, RS-232, 4-20 mA Monitoraggio AMC continuo di posizioni critiche Acquisizione, gestione e analisi dei dati solide e affidabili Stabilità dei dati a lungo termine Costo per test ridotto Monitoraggio in tempo reale della corrosione nelle posizioni di processo sottoposte ad attacco chimico Monitoraggio in tempo reale di ammine e ammoniaca all’interno di sistemi di litografia critici Quantificazione dell’efficienza dei filtri chimici Monitoraggio e risoluzione dei problemi di sorgenti di contaminazione in tutta la camera bianca e gli strumenti di processo Analisi della contaminazione nei moduli di conservazione dei wafer del FOUP

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