Forno per trattamento termico

di grafitizzazionea camerasottovuoto

I forni CVD (Chemical Vapor Deposition) sono forni speciali utilizzati nel processo CVD, che è una tecnica per la produzione di rivestimenti attraverso reazioni chimiche in fase gassosa, ad esempio a partire da MTS (gas CH3SiCl3-metiltriclorosilano). Sono progettati per consentire la deposizione controllata di materiali sulla superficie dei materiali lavorati. Le apparecchiature CVD contengono una camera di reazione in cui vengono controllati parametri quali la temperatura, la pressione e la composizione chimica del gas di processo. La CVD è una tecnica per produrre rivestimenti sulle superfici dei substrati attraverso reazioni chimiche in fase gassosa. Il processo di deposizione chimica (CVD) è una tecnica utilizzata, ad esempio, per produrre rivestimenti protettivi (foratura di utensili). Il forno CVD crea strati protettivi sugli utensili, aumentandone la durata, la resistenza e l'efficienza durante la lavorazione. Nel processo CVD, le reazioni chimiche consentono di depositare strati sulla superficie dell'utensile, migliorandone le proprietà. Questi rivestimenti offrono una migliore resistenza all'abrasione, alle alte temperature e agli ambienti corrosivi, il che si traduce in una maggiore durata degli utensili e in una maggiore efficienza durante la produzione industriale.