Stepper NPS300

Orientato alla ricerca e sviluppo avanzata e alla linea pilota, NPS300 è uno stepper ad alta precisione e ad alta forza progettato per il nano-imprinting. Ottimizzato per la replica di nanostrutture con una precisione di ± 0,5 μm, l'NPS300 è il primo strumento in assoluto in grado di combinare litografia a rilievo a caldo e UV-NIL allineati su una stessa piattaforma. L'NPS300 è in grado di stampare geometrie inferiori a 20 nm con una precisione di sovrapposizione di 250 nm. La sua architettura flessibile offre un'eccellente riproducibilità del processo e una capacità unica di modellare grandi aree, in modalità sequenziale Step & Repeat su wafer fino a 300 mm. Consente la produzione a basso costo di stampi di grandi dimensioni con pattern ripetuti. - Precisione di ± 0,5 μm - Modalità Step & Repeat su wafer fino a 300 mm - Prelievo automatico del timbro - Tecnologia a cuscinetto d'aria e struttura in granito per garantire stabilità e affidabilità a lungo termine - Controllo del parallelismo per garantire un'altissima precisione anche in presenza di forze elevate - Calibrazione manuale o completamente automatica - Ciclo automatico e indipendente dall'operatore - Alto rendimento grazie a un design rigido - Registrazione del processo per lo sviluppo, file di log per tracciare la produzione