Macchina per deposizione CVD RT-Parylene Coating-CVD-1
di parylenesottovuotoper optoelettronica

macchina per deposizione CVD
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Caratteristiche

Metodo
CVD
Tipo di deposito
di parylene
Altre caratteristiche
sottovuoto
Applicazioni
per l'industria microelettronica, per optoelettronica, per il settore aerospaziale

Descrizione

Che cosa è parilenico? È un materiale protettivo del poliestere trasparente ed incolore. È adatto a rivestimento di vuoto alla temperatura ambiente e la pressione del rivestimento di vuoto è inferiore a 10-5 torr, mentre il processo di rivestimento parilenico è di circa 0,1 torr. Lo spessore del rivestimento può essere controllato fra 1-100 micron. Il rivestimento è un brevetto sviluppato dagli Stati Uniti nell'inizio degli anni 60. In primo luogo si è applicato al campo delle componenti microelettroniche per i dispositivi aerospaziali e subacquei stampati militari dei circuiti degli Stati Uniti, del lancio, 1972 inclusi nelle norme militari degli Stati Uniti in: MIL-I-46058C Micro e tecnologia della trasformazione nana: applicazione a spruzzo chimica (CVD) Metta i nano-materiali in polvere nella camera di evaporazione dell'attrezzatura del nano-rivestimento di vuoto ed evapori nelle molecole gassose ad una temperatura di 150℃-180℃. Nell'ambito dell'azione del vuoto (1.0*10-2torr), i nanomolecules gassosi sotto 10nm prendparteono all'incrinamento nella camera fendentesi, la temperatura elevata a 680°C-700°C è fenduta nei monomeri reattivi ed i monomeri attivi ed i monomeri ri-sono polimerizzati per formare uno strato denso e senza foro di spillo del nano-film.

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