Macchina per deposizione PVD CsI950

tramite evaporazione ad arcodi pellicola metallizzatasottovuoto

Il sistema del deposito di alto vuoto CsI950 esclusivamente è progettato per CsI e la metalizzazione di TII sugli schermi di scintillazione in un ambiente di vuoto estremamente alto. Gli scintillatori di CsI 200~600µm nelle gamme di spessore con alta uniformità della prestazione di luminosità e di spessore: Alta risoluzione spaziale ultra- di rappresentazione; Risposta veloce per rappresentazione più tagliente; Zone d'immagine principali del bordo--bordo della classe; Ottico assorba gli strati o gli strati del riflettore; Dose paziente bassa dei raggi x. Substrati applicati: TFT di vetro, piatto a fibra ottica, piatto del Amorfo-carbonio, piatto di alluminio Applicazione: per il controllo di sicurezza ed ispezione, istruzione di fisica delle alte energie, rilevazione nucleare del radiaton e imaging biomedici: esame del petto, mamography, inter orale e panoramico dentari.