Spalmatrice per polverizzazione catodica

ottica

·Pretrattamento al plasma e del bersaglio in grafite per migliorare efficacemente l’adesione degli strati di film sottile; ·Doppie camere di sputtering, che garantiscono una riduzione della durata del rivestimento della metà rispetto a una camera singola e consentono tempi di ciclo più brevi; ·Diverse serie di bersagli di sputtering per ottenere una deposizione ad alta efficienza di vari materiali; ·Regolazione continua della distanza tra le diverse vaschette di evaporazione, messa a punto della distanza ES e controllo preciso del volume di dosaggio nella pompa a siringa per garantire le prestazioni anti-olio del prodotto; · Il design del tamburo di rivestimento di grande diametro, combinato con una soluzione personalizzata per il fissaggio dei substrati, migliora significativamente la produttività; · La movimentazione automatica del carico e dello scarico dei substrati, integrata con la valvola della porta e il sistema di rilevamento di sicurezza dei binari, garantisce un funzionamento sicuro.