Spettrometro fotoelettronico a raggi X AXIS Supra+

da laboratorioper l'industria dei semiconduttoriper spettroscopia

Panoramica
L'AXIS Supra+ è uno spettrometro di fotoelettroni indotti da raggi X (XPS) con capacità di imaging, che fornisce informazioni quantitative sugli elementi e sullo stato chimico nei primi ~10 nm della superficie di un materiale. Commercializzato anche come Kratos Ultra 2 in Giappone, l'AXIS Supra+ combina funzioni spettroscopiche e imaging parallelo con elevata automazione per supportare analisi di superficie in ambito di ricerca e produzione su metalli, semiconduttori e isolanti.

Caratteristiche principali

• Sensibilità: Ottima sensibilità in modalità spettroscopia e imaging XPS per analisi di superficie e tracce.
• Usabilità: Il software ESCApe integra acquisizione, elaborazione e automazione per flussi di lavoro efficienti.
• Imaging XPS parallelo: Imaging rapido ad alta risoluzione spaziale per mappare la distribuzione laterale di elementi e stati chimici.
• Risoluzione: Elevata risoluzione spettroscopica e di imaging, adatta a studi dettagliati della chimica superficiale.
• Automazione: Ampia automazione delle funzioni dello spettrometro per aumentare produttività e ripetibilità.
• Tecniche aggiuntive: Piattaforma modulare configurabile con opzioni complementari di analisi e preparazione della superficie senza degradare le prestazioni XPS.

Applicazioni

• Analisi dei materiali per batterie e accumulo di energia.
• Studi correlati alla HAXPES (Hard X‑ray photoelectron spectroscopy).
• Caratterizzazione di rivestimenti e film sottili.
• Profilatura in profondità UPS‑XPS di film OLED e altre pellicole sottili mediante sputtering con cluster di argon.
• Quantificazione della composizione degli strati in semiconduttori compositi e materiali multistrato.

Documenti disponibili (note applicative selezionate)

• Profilo di profondità combinato UPS‑XPS con cluster di argon di film sottile OLED (nota applicativa).
• Quantificazione della composizione degli strati in semiconduttori compositi (nota applicativa).
• Eliminazione della sovrapposizione linea core/picco Auger utilizzando diverse energie fotoniche (nota applicativa).

Specifiche tecniche

• Marca: Shimadzu
• Modello: AXIS Supra+
• Denominazione alternativa: Kratos Ultra 2 (Giappone)
• Tipo: Spettrometro XPS a immagine (Imaging X‑Ray Photoelectron Spectrometer)
• Profondità di analisi: circa ~10 nm della superficie
• Tecniche: XPS in modalità spettroscopica e imaging parallelo; supporta profilatura UPS‑XPS con sputtering a cluster di argon
• Imaging: Imaging XPS parallelo ad alta risoluzione spaziale per mappatura chimica laterale
• Sensibilità e risoluzione: Progettato per eccellente sensibilità e alta risoluzione spettroscopica e di imaging
• Software: ESCApe per acquisizione integrata, elaborazione e controllo dell'automazione
• Compatibilità campioni: Metalli, semiconduttori, isolanti e vari film/ rivestimenti sottili
• Modularità: Configurabile con opzioni aggiuntive di analisi e preparazione della superficie senza compromettere le prestazioni XPS