Spettrometro fotoelettronico a raggi X XPS

da laboratorioper trattamenti di superficieper spettroscopia

Panoramica
La spettroscopia di fotoelettroni a raggi X (XPS), nota anche come ESCA, è una tecnica consolidata di analisi della superficie per la caratterizzazione dei materiali. XPS fornisce informazioni quantitative su elementi e stati chimici nei primi ~10 nm del materiale. Lo spettrometro di fotoelettroni Kratos AXIS Nova raccoglie spettri e immagini XPS da materiali stabili in condizioni di ultra‑alto vuoto richieste dalla tecnica.

Prestazioni
Progettato per un uso efficiente in laboratorio e in produzione, l'AXIS Nova dispone di caricamento automatico dei campioni, telecamere ortogonali per un rapido posizionamento e software di acquisizione intuitivo. La platina campione da 110 mm di diametro consente la gestione di campioni di grandi dimensioni e un elevato throughput senza compromettere sensibilità spettroscopica, risoluzione energetica o prestazioni di imaging spaziale.

Caratteristiche

• Sensitivity — Raccolta efficiente dei fotoelettroni per elevata sensibilità in modalità spettroscopia e imaging XPS.
• Resolution — Eccellente risoluzione energetica spettroscopica per misurare con precisione piccoli spostamenti chimici.
• Simplicity — Utilizza il software ESCApe per acquisizione, elaborazione e reporting, assicurando flussi di lavoro coerenti tra gli strumenti Kratos.
• Parallel XPS imaging — Consente la mappatura della distribuzione elementare e chimica sulla superficie.
• Automation — Movimentazione campioni automatizzata e workflow predefiniti per aumentare il throughput e la ripetibilità.
• Additional capabilities — Sistema estendibile: opzione lampada UV He‑discharge per UPS (banda di valenza e lavoro di funzione) e moduli analitici aggiuntivi.

Applicazioni (selezionate)

• Rivestimenti e film sottili
• Polimeri e trattamenti superficiali
• Profilatura in profondità mediante sputtering con cluster di gas Arn+ di polimeri plasmatici reticolati
• Analisi di stent polimerici rivestiti con farmaci
• Sistemi di film sottili combinatoriali — analisi a matrice

Specifiche tecniche

• Tecnica: spettroscopia di fotoelettroni a raggi X (XPS) / ESCA
• Profondità di analisi: informazioni dai ~10 nm più superficiali
• Diametro platina campione: 110 mm (gestione di campioni di grandi dimensioni)
• Gestione campioni: caricamento automatico
• Posizionamento: telecamere ortogonali per un facile allineamento
• Imaging: imaging XPS parallelo ad alta risoluzione spaziale
• Sensibilità e risoluzione: alta sensibilità ed eccellente risoluzione energetica
• Software: ESCApe per acquisizione, elaborazione e reporting
• Opzioni: lampada UV He‑discharge per UPS (banda di valenza e lavoro di funzione)