SISTEMA DI MONITORAGGIO GAS DI PROCESSO REATTIVO - SERIE QULEE RGM
Questo sistema di monitoraggio di processo è stato sviluppato per vari tipi di applicazioni come l'etch, CVD e altri processi di gas reattivi. L'utilizzo della sorgente ionica e del sistema di pompaggio originali ULVAC consente di ottenere risultati di misurazione stabili. La soluzione più appropriata per l'apparecchiatura di mordenzatura/CDV
Risultati di misura stabili a lungo termine
Sorgente ionica chiusa che utilizza un campo magnetico
La ionizzazione morbida fornisce una minore dissociazione del gas e una maggiore sensibilità.
La decomposizione e l'adsorbimento dovuti a reazioni termiche sono ridotti al minimo
nella camera di ionizzazione.
Valvola a conduttanza compatta con 3 diverse modalità di ingresso gas
La breve distanza tra la camera di processo e la sorgente ionica consente di
risposta rapida dell'analisi.
Adatto per il monitoraggio del processo
Ampio range di pressione da 1×10-6 a 13kPa (7,5×10-9 a 97,5 Torr,
1×10-8 a 130mbar) è disponibile. (Scelta degli orientamenti)
Display integrato
Non c'è bisogno di PC
Funzionamento semplice
"Funzione "One Click
Cuocere
Max 120˚C (248˚F) Cottura ad alta temperatura
Funzione Degas
Degas da bombarda elettronica
Fattibilità di protezione e manutenzione
Protezione e manutenzione della sorgente ionica e dell'elettrone secondario
moltiplicatore
Rintracciabilità del tubo di analisi (in attesa di brevetto)
Sono disponibili vari test di tenuta
Prova di tenuta dell'elio, prova di tenuta dell'aria, perdita su
Misurazione della pressione totale
In grado di misurare la pressione totale (Manometro a ionizzazione esterno (GI-M2)
Qulee QCS è incluso
Questo software è incluso e compatibile con (Windows XP/7)
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