Pompa a vuoto a membrana MD 4C NT +AK SYNCHRO+EK

senza olio230 V ACa tre stadi

eccezionale resistenza chimica e tolleranza superiore ai vapori prestazioni eccezionalmente elevate anche a basso vuoto eccellente vuoto finale anche con gas di zavorra funzionamento simultaneo di due applicazioni di vuoto indipendenti, con valvole di ritegno affidabili per impedire interferenze tra i sistemi eccellente compatibilità ambientale grazie all’efficiente recupero dei solventi Sistema di vuoto per applicazioni chimiche in azione Questo sistema di vuoto per applicazioni chimiche consente il funzionamento simultaneo di due processi con una sola pompa. Le applicazioni tipiche sono evaporatori rotativi, concentratori sottovuoto e forni di essiccazione sottovuoto. Ogni attacco di vuoto è dotato di una valvola manuale per regolare la portata effettiva in ciascuna porta. La pompa MD 4C NT offre una velocità di pompaggio più che sufficiente anche per il funzionamento in parallelo di due applicazioni impegnative. Il separatore in ingresso (AK), realizzato in vetro con rivestimento protettivo, trattiene particelle e goccioline di liquido. Il condensatore dei vapori di scarico in uscita (EK) è altamente efficiente e compatto. Il condensatore consente un recupero del solvente prossimo al 100%, un riciclaggio efficiente e una protezione attiva dell’ambiente.