Resine di polimero Fujifilm

... Materiali per l'imaging positivo a secco e per immersione e per lo sviluppo del tono negativo (NTD) Ampia gamma di sistemi di imaging ad alta risoluzione per esposizione a 193 nm, incluso l'imaging positivo a secco e a immersione e lo ...

... La serie GKR è costituita da sistemi fotoresistenti KrF a tono positivo che coprono un'ampia gamma di applicazioni. - Materiali non PFOS/PFAS - Applicazione ad alto rapporto d'aspetto - Resistenza superiore all'incisione al plasma e all'impiantazione ...

... Ampia serie di fotoresist a media sensibilità per applicazioni da critiche a non critiche che comprendono una risoluzione da sub-0.30µm a >1.0µm su vari substrati in un'ampia gamma di spessori di resistenza. Riassunto del prodotto - ...

... Serie multipla di sistemi di resistenza a base di poliisoprene a tono negativo applicabili a un'ampia gamma di esigenze di proiezione, imaging di prossimità e contatto e incisione a umido su vari substrati Riassunto del prodotto - Serie ...

... Serie di resistenze a tono positivo e negativo per un'ampia gamma di applicazioni di imaging e-beam - Risoluzione superiore - Ampie finestre di processo Riepilogo dei prodotti Serie FEP - I prodotti della serie FEP sono adatti a un'ampia ...

... I prodotti PBO amplificati chimicamente di Fujifilm offrono un'alta affidabilità con bassi costi di gestione. - Materiali ad alto contrasto e ad azione positiva basati sulla chimica PBO - Fotografabili utilizzando strumenti di esposizione ...

... Le poliimmidi sviluppabili con solvente di Fujifilm sono una famiglia di precursori di poliimmidi foto-immaginabili, che coprono sia le alte che le basse temperature di polimerizzazione per lo strato di distribuzione (RDL) e le applicazioni ...

... Fujifilm ha diverse formulazioni di poliimmide non fotosensibili per un'ampia varietà di semiconduttori e applicazioni correlate. - Spessori di rivestimento finale da 400 Angstrom a 25 micron - Opzioni di polimerizzazione a bassa temperatura - ...