Resina per semiconduttori ArFfotosensibilea immersionead alte prestazioni
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Caratteristiche
- Applicazioni
- per semiconduttori
- Altre caratteristiche
- fotosensibile, a immersione, ad alte prestazioni
Descrizione
Panoramica
Materiali per imaging positivo in asciutto e a immersione, e per imaging a tonalità negativa (NTI). Progettati per esposizioni a 193 nm ad alta risoluzione con opzioni per processi in asciutto e in immersione.
Gamma di prodotti
Caratteristiche e vantaggi
Caratteristiche / Dati tecnici
Materiali per imaging positivo in asciutto e a immersione, e per imaging a tonalità negativa (NTI). Progettati per esposizioni a 193 nm ad alta risoluzione con opzioni per processi in asciutto e in immersione.
Gamma di prodotti
- GAR Series: I prodotti della GAR Series sono adatti ad applicazioni che richiedono esposizione a 193 nm in modalità asciutta.
- FAiRS Series for PTI (positive tone imaging): Prodotti FAiRS per esposizione a 193 nm in immersione e imaging a tonalità positiva.
- FAiRS Series for NTI (negative tone imaging): Prodotti FAiRS per esposizione a 193 nm in immersione e imaging a tonalità negativa.
Caratteristiche e vantaggi
- Elevata produttività
- Risoluzione superiore
- Ampi margini di processo
- Bassi livelli di difetti
- Controllo del profilo verticale
Caratteristiche / Dati tecnici
- Lunghezza d'onda: 193 nm
- Modalità di imaging: positivo asciutto, immersione (PTI), imaging a tonalità negativa (NTI)
- Serie di prodotti: GAR Series (dry), FAiRS Series (PTI e NTI)
- Progettati per imaging ad alta risoluzione con ampi margini di processo e bassi livelli di difetti
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