Resina fotosensibile ArF

per semiconduttori

Materiali per l'imaging positivo a secco e a immersione e per l'imaging a tono negativo (NTI) Caratteristiche e vantaggi Ampia gamma di sistemi di imaging ad alta risoluzione per esposizione a 193 nm, tra cui imaging positivo a secco e a immersione e imaging a tono negativo (NTI) - Elevata produttività - Risoluzione superiore - Ampie finestre di processo - Bassi livelli di difettosità - Profili verticali - Serie GAR I prodotti della serie GAR sono adatti a una varietà di applicazioni che richiedono l'esposizione a secco a 193 nm. - Serie FAiRS per PTI (imaging a toni positivi) I prodotti della serie FAiRS sono adatti a una serie di applicazioni che richiedono l'esposizione a immersione a 193 nm e l'imaging a toni positivi. - Serie FAiRS per NTI (imaging a toni negativi) I prodotti della serie FAiRS sono adatti a una serie di applicazioni che richiedono l'esposizione a immersione a 193 nm e l'imaging a tono negativo.