Resina fotosensibile ArFper semiconduttori
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Caratteristiche
- Applicazioni
- per semiconduttori
- Altre caratteristiche
- fotosensibile
Descrizione
Materiali per l'imaging positivo a secco e per immersione e per lo sviluppo del tono negativo (NTD)
Ampia gamma di sistemi di imaging ad alta risoluzione per esposizione a 193 nm, incluso l'imaging positivo a secco e a immersione e lo sviluppo di toni negativi (NTD)
- Alta produttività
- Risoluzione superiore
- Ampie finestre di processo
- Bassi livelli di difettosità
- Profili verticali
- Serie GAR
I prodotti della serie GAR sono adatti a lavorare con un'ampia gamma di applicazioni che richiedono l'esposizione a secco a 193 nm
- Serie FAiRS per PTD
I prodotti della serie FAiRS sono adatti a un'ampia gamma di applicazioni che richiedono l'esposizione a immersione a 193 nm e lo sviluppo di toni positivi
- Serie FAiRS per NTD
I prodotti della serie FAiRS sono adatti a un'ampia gamma di applicazioni che richiedono l'esposizione a immersione a 193 nm e lo sviluppo di toni negativi
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Cataloghi
* I prezzi non includono tasse, spese di consegna, dazi doganali, né eventuali costi d'installazione o di attivazione. I prezzi vengono proposti a titolo indicativo e possono subire modifiche in base al Paese, al prezzo stesso delle materie prime e al tasso di cambio.