PanoramicaSerie di fotoresist sensibili al mid-UV formulate per il patterning su un'ampia gamma di risoluzioni (inferiore a 0,30 µm fino a >1,0 µm) e spessori di film variabili su substrati non riflettenti, riflettenti e ad alta riflettività.
Gamma prodotti- Resist i-Line per substrati non riflettenti
Famiglie di resist progettate per stampa CD critica su substrati non riflettenti:- OiR 620 series
- OiR 674 series
- Resist i-Line per substrati riflettenti
Serie con opzioni di fotosensibilità elevate per risoluzioni avanzate su substrati riflettenti:- OiR 674 series
- GiR 1102 series
- Resist i-Line ad alta risoluzione multiuso
Serie che offrono le opzioni di fotospeed più rapide per alta produttività e patterning ad alta risoluzione:- GiR 2700 series
- OiR 305 series
- OiR 906 series
- OiR 907 series
- Resist crossover g- e i-Line e broadband
Resist adatti a g-line, i-line e broadband (>800 nm CD):- HiPR 6500 series
- HPR 510 series
- Resist tinti per substrati ad alta riflettività
Formulazioni non scolorenti che forniscono elevata densità ottica per il controllo di CD e notching:- OiR 906HD
- OiR 305HC
- HiPR 6500GH
- HiPR 6500HC
- Resist i-Line per applicazioni spesse
Serie progettate per patterning di film spessi (3–13 µm):- FHi-560EP
- GiR 3114
- OiR 305
- OiR 908
Caratteristiche e vantaggiOpzioni complete di resist mid-UV che coprono gamme CD critiche e non critiche, compatibilità con più tipi di substrati e ampie finestre di spessore film, con compromessi fotospeed/risoluzione selezionabili per serie.
Specifiche tecniche- Sensibilità: mid-UV (i-line / g-line / broadband)
- Risoluzione target: <0,30 µm a >1,0 µm a seconda della serie
- Compatibilità substrati: non riflettenti, riflettenti e ad alta riflettività
- Serie rappresentative: OiR 620, OiR 674, GiR 1102, GiR 2700, OiR 305, OiR 906, OiR 907, HiPR 6500, HPR 510, OiR 906HD, OiR 305HC, HiPR 6500GH, HiPR 6500HC, FHi-560EP, GiR 3114, OiR 908
- Controllo di CD e notching per substrati altamente riflettenti (serie tinte)
- Intervallo di spessore film per applicazioni spesse: 3 µm a 13 µm
- Opzioni per fotospeed elevato e alta risoluzione (>500 nm CD) a seconda della serie