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Resina per incapsulamento Resist series
fotosensibile

Resina per incapsulamento - Resist series  - Fujifilm NDT Systems - fotosensibile
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Caratteristiche

Applicazioni
per incapsulamento
Altre caratteristiche
fotosensibile

Descrizione

Serie multipla di sistemi di resistenza a base di poliisoprene a tono negativo applicabili a un'ampia gamma di esigenze di proiezione, imaging di prossimità e contatto e incisione a umido su vari substrati Riassunto del prodotto - Serie SC Resist Progettata per applicazioni più spesse che impiegano rivestimenti da 1,8 a 10 µm per l'esposizione su stampanti a contatto - Serie IC Tipo 3 Resist Progettata per applicazioni che impiegano rivestimenti da 0,75 a 2,0 µm per l'esposizione su stampanti a proiezione, di prossimità e a contatto - Serie di resistenze HNR Progettata per applicazioni ad alta risoluzione che impiegano rivestimenti da 0,50 a 1,40 µm per l'esposizione su stampanti di prossimità e a contatto - Serie HR Resist Progettata per applicazioni che impiegano rivestimenti da 0,70 a 1,50 um per l'esposizione su substrati altamente riflettenti su stampanti a proiezione, di prossimità e a contatto

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