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Resina per incapsulamento Resist series
fotosensibile

Resina per incapsulamento - Resist series  - Fujifilm NDT Systems - fotosensibile
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Caratteristiche

Applicazioni
per incapsulamento
Altre caratteristiche
fotosensibile

Descrizione

Serie multipla di resistenze a tono negativo, a base di poliisoprene, applicabili a un'ampia gamma di esigenze di proiezione, prossimità e contatto e di incisione a umido su vari substrati Gamma di prodotti Serie SC Resist Progettata per applicazioni più spesse che richiedono rivestimenti da 1,8 a 10 µm per l'esposizione su stampanti a contatto Serie IC Type 3 Resist Progettata per applicazioni con rivestimenti da 0,75 a 2,0 µm per l'esposizione su stampanti a proiezione, di prossimità e a contatto Serie HNR Resist Progettata per applicazioni ad alta risoluzione che impiegano rivestimenti da 0,50 a 1,40 µm per l'esposizione su stampanti di prossimità e a contatto Serie HR Resist Progettata per applicazioni con rivestimenti da 0,70 a 1,50 um per l'esposizione su substrati altamente riflettenti con stampanti a proiezione, di prossimità e a contatto

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