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... Precisione di allineamento: ≤ 0,5 μm
Caratteristiche tecniche
- Movimentazione wafer automatica e allineamento della maschera
- Supporto per dimensioni wafer combinate: 2–4 pollici e
SEIWAOPTICAL CO., LTD.
... esposizioni ad alta definizione e un meccanismo di parallelismo ad alta precisione tra fotomaschera e wafer. Il sistema
completamente automatico supporta tre modalità di controllo del gap: Vacuum contact, Soft Contact e Proximity Gap.
Applicazioni< ...
SEIWAOPTICAL CO., LTD.
... principali
- Allineamento selezionabile: opzioni di allineamento manuale o automatico.
- Controllo del gap selezionabile: regolazione automatica o manuale.
- Carico/scarico manuale per una gestione
SEIWAOPTICAL CO., LTD.
... substrato. Funzionamento completamente automatico con modalità di esposizione: contatto a vuoto, contatto morbido e gap di prossimità. Configurazioni verticale e orizzontale per diverse dimensioni di maschera: verticale ...
SEIWAOPTICAL CO., LTD.
... essere integrata perfettamente con gli strumenti di cluster. I nuovi allineatori di maschere di produzione OAI sono il pacchetto completo. YIELDS OTTIMIZZATI 200 WPH in modalità 1a maschera Ottiche di ...
... all'avanguardia per l'allineamento delle maschere su un'area di ingombro minimo fino a 150 mm di dimensione dei wafer. Nota per la sua versatilità e affidabilità, l'EVG620 NT offre una tecnologia di allineamento delle maschere ...
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