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OAI
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OAI
OAI
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EV Group
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EV Group
... posteriore ±1 μm o inferiore
Punti operativi
- Allineamento parallelo ad alta precisione tra maschera e wafer per riproducibilità dei pattern
- Controllo del gap flessibile per processi in contatto
SEIWAOPTICAL
... Panoramica
- Sistema di esposizione wafer (mask aligner) da banco, progettato per R&S e produzione in piccoli lotti.
- Supporta tre modalità di controllo del gap: Hard contact, Soft contact e Proximity gap.
Applicazioni
- Adatto
SEIWAOPTICAL
... allineamento: ≤ 0,5 μm
Caratteristiche tecniche
- Movimentazione wafer automatica e allineamento della maschera
- Supporto per dimensioni wafer combinate: 2–4 pollici e 4–6 pollici
- Progettazione
SEIWAOPTICAL
... vuoto, contatto morbido e gap di prossimità. Configurazioni verticale e orizzontale per diverse dimensioni di
maschera: verticale per
maschere grandi (G5 e superiori), orizzontale per G4.5 o inferiori.
Uso
Adatto ...
SEIWAOPTICAL
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