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... della microelettronica, nanoelettronica e fotovoltaica. Questi forni sono i seguenti; Deposizione di vapore chimico a bassa pressione (LPCVD) I processi lo sono; Nitruro di silicio Ossido di TEOS Ossido a bassa temperatura (LTO) Ossido ...
... sistemi di ugelli possono essere cambiati anche in un secondo momento, senza richiedere un elevato tempo di installazione. Il forno a doppio nastro HiPerTherm di AUTEFA Solutions è caratterizzato da una struttura a doppio telaio, da ...
Temperatura massima: 250 °C
Capacità: 5 l
Larghezza: 540 mm
... Forno a vuoto Volume: 2 Cu. Ft (50L) Interno: 410 x 400 x 345 mm Ripiani: 2 ciascuno Vuoto: 0,089 Mpa Materiale: SS 1Cr18Ni9Ti Temperatura di esercizio Stabilità della temperatura: 0,1°C ± 1°C Pressione: da -5°C a ...
PURE5 Extraction
Temperatura massima: 200 °C
Capacità: 27 l
Larghezza: 550 mm
... protezione dalla corrosione - Utile per laboratori industriali e scientifici - Regolatore con display digitale di temperatura e pressione - Ampia finestra di visualizzazione - Efficiente dal punto di vista energetico ...
... Il forno di tempra sotto vuoto ad alta pressione è un'apparecchiatura per la lavorazione dei materiali. Ha le caratteristiche di un ambiente ad alto vuoto e l'utilizzo di gas di tempra ad alta pressione, ...
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