Macchine per pulizia per wafer

... Trattamento a umido di wafer / substrati / maschere Pulizia, sviluppo, striatura, mordenzatura, vari processi chimici, tra cui Piranha, HF, SC1 e SC2, Megasonic e alta pressione Versione stand alone ...

... e la pulizia dei wafer di silicio diffusi. Flusso di processo Rimozione dell'involucro→Post-pulizia→Pulizia acida→Post-pulizia→Pulizia ...

... Progettato per la pulizia di wafer singoli fino a 300 mm/12″ Ideale per la pulizia di wafer di germanio (Ge), galluim arsendie (GaAs) e fosfuro di indio (InP), con o ...

... Questa macchina è una macchina per la pulizia dei wafer completamente automatica, azionata automaticamente da un manipolatore in un ambiente chiuso, con funzioni di pulizia ...

... Il sistema di pulizia post-lucidatura PCS - wet to dry - rimuove le particelle e la contaminazione e crea superfici di wafer perfettamente pulite. Lo strumento gestisce wafer ...

... macchina per la pulizia centrifuga a due fluidi dei wafer, detta anche attrezzatura per la pulizia dei wafer, macchina per la pulizia ...