Pompa a vuoto a vite COBRA DS 0080 G
a seccoal plasmacompatta

pompa a vuoto a vite
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Caratteristiche

Tecnologia
a vite
Lubrificazione
a secco
Applicazioni
al plasma
Altre caratteristiche
compatta, anticorrosione
Grado di vuoto

0,03 mbar
(0 psi)

Portata

85 m³/h
(3.001,75 ft³/h)

Descrizione

COBRA DS 0080 / 0160 G Vite con design avanzato Efficiente: conveniente, manutenzione minima, tempi di attività elevati Flessibile: orientato all'applicazione Tempi di processo brevi: grazie alle elevate velocità di pompaggio Robusto: rivestimento anticorrosione sui componenti interni Design compatto COBRA DS 0080/0160 G sono pompe per vuoto a vite a secco della collaudata serie COBRA DS. Le loro elevate velocità di pompaggio, anche in condizioni in cui è richiesta un'elevata produzione di idrogeno, rendono le pompe per vuoto a vite COBRA DS ideali per tutti i processi impegnativi nella produzione di celle fotovoltaiche, schermi piatti e semiconduttori. La tecnologia all'avanguardia delle pompe per vuoto a vite COBRA DS permette di evacuare i fluidi carichi di polvere e particelle. Le pompe per vuoto a vite a secco COBRA DS sono caratterizzate dalla compressione a secco, da un profilo della vite appositamente sviluppato e da uno scarico del gas senza impedimenti. Il risultato è un alto grado di tolleranza al vapore e alle particelle. Le viti sono fabbricate da una fusione in un unico pezzo, evitando qualsiasi vuoto, rendendo impossibile l'ingresso di fluidi o particelle di processo, e prevenendo così la corrosione. Dotato di motori ad alta efficienza, il COBRA DS 0080/0160 G offre un'eccellente efficienza energetica. Con bassi requisiti di manutenzione, bassi costi di esercizio, un tempo di attività molto elevato e un lungo ciclo di vita, il costo totale di proprietà è molto basso, stabilendo lo standard in questa classe di prestazioni. Il retrofitting di queste pompe per vuoto a vite su sistemi esistenti può essere eseguito in modo semplice e veloce grazie al design "fit-in-place". Applicazioni Plasma ad alta densità CVD (HDP-CVD) Elaborazione termica rapida (RTP) CVD subatmosferico (SACVD) CVD metallo-organico (MOCVD) CVD al plasma (PECVD) CVD a bassa pressione (LPCVD) Deposizione dello strato atomico (ALD)

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Hannover Messe 2024
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22-26 apr 2024 Hannover (Germania) Hall 13 - Stand E12

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    IFAT 2024
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    13-17 mag 2024 München (Germania) Hall Vide - Stand B2.127/226

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