Macchina per deposizione CVD C30Sdi film sottilidi parylene
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Caratteristiche
- Metodo
- CVD
- Tipo di deposito
- di film sottili, di parylene
Descrizione
Ideale per test di laboratorio e produzione industriale di piccoli pezzi
Apparecchiatura versatile con possibilità di aggiornamento alla configurazione multistrato
Perfettamente adatto per:
Componenti di piccole e medie dimensioni (ad es. in elettronica, applicazioni mediche, ecc.)
Wafer fino a ø 200 mm (8 pollici)
Dimensioni complessive (L x P x A) - 2100 x 1370 x 2000 mm
Peso - 350 kg
Dimensioni della camera - ∅ 295 x 370 mm
Dimensioni dell'utensile - ∅ 260 x 320 mm
Carico massimo dell'utensile - 100 kg
Capacità di carico del dimero - 150g
Capacità di pompaggio - 40 m3/h
Alimentazione richiesta - 3 x 400V + N + PE - 50 Hz
3 x 25A - 15kW
Parylene processabile - Tipo: C, D, N, F-VT4, F-AF4
Camera termalizzata - intervallo di temperatura - 20 - 30°C
Opzioni - Compatibile con tutte le opzioni
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* I prezzi non includono tasse, spese di consegna, dazi doganali, né eventuali costi d'installazione o di attivazione. I prezzi vengono proposti a titolo indicativo e possono subire modifiche in base al Paese, al prezzo stesso delle materie prime e al tasso di cambio.