Macchina per deposizione CVD C50Sdi film sottilidi parylene
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Caratteristiche
- Metodo
- CVD
- Tipo di deposito
- di film sottili, di parylene
Descrizione
Ideale per la produzione industriale su larga scala
Strumento potente con tempi di processo ottimizzati
Perfettamente adatto per:
Produzione in grandi volumi di qualsiasi componente di piccole e medie dimensioni
PCB di grandi dimensioni, schede elettroniche (ad es. in applicazioni aeronautiche)
Dimensioni complessive (L x P x A) - 2600 x 700 x 2000 mm
Peso - 400 kg
Dimensioni della camera - ∅ 450 x 660 mm
Dimensioni dell'utensile - ∅ 340 x 610 mm
Carico massimo dell'utensile - 100 kg
Capacità di carico del dimero - 500g
Capacità di pompaggio - 80 m3/h
Alimentazione richiesta - 3 x 400V + N + PE - 50 Hz
3 x 25A - 15kW
Parylene processabile - Tipo: C, D, N, F-VT4, F-AF4
Camera termalizzata - intervallo di temperatura - 20 - 30°C
Opzioni - Compatibile con tutte le opzioni / Paranco incluso
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