Sistema di litografia laser EVG®770 NT

Sistema di litografia nanoimprint step-and-repeat Litografia nanoimprint step-and-repeat per un'efficiente fabbricazione di master L'EVG770 NT è una piattaforma versatile per la litografia nanoimprint step-and-repeat (S&R) per la fabbricazione efficiente di master o per il patterning diretto di strutture complesse su substrati. Questo approccio permette la replica uniforme di modelli da piccole matrici fino a 30 cm². Il processo S&R permette di replicare quelle matrici più volte su grandi aree fino a substrati di dimensioni da pannello Gen2. In combinazione con la tornitura in diamante o i metodi di scrittura diretta, l'imprinting S&R è spesso utilizzato per fabbricare in modo efficiente i master necessari per la produzione di ottiche a livello di wafer o per il processo SmartNIL di EVG. Quindi, è spesso un prerequisito cruciale per la produzione in grandi volumi di guide d'onda per la realtà aumentata, sensori ottici, ottica diffrattiva, metasuperfici o dispositivi biomedici. Le caratteristiche chiave dell'EVG770 NT includono capacità di allineamento preciso, controllo completo del processo e la flessibilità per affrontare i requisiti di processo di un'ampia varietà di strutture e materiali. Produzione master di alta qualità di microlenti per ottiche a livello di wafer fino a nanostrutture per SmartNIL Scalabilità efficiente a substrati di grandi dimensioni fino alla dimensione del pannello Semplice implementazione di diversi tipi di master Modalità di erogazione di resistenze variabili Immagine dal vivo durante l'erogazione, l'imprinting e il demolding Controllo della forza in situ per l'imprinting e il demolding Controllo ottico della distanza e misurazione del gap dal vivo Metrologia in linea opzionale Buffer del timbro opzionale e cambio automatico Manipolazione automatizzata opzionale da cassetta a cassetta 80 mm, 4", 6", 8", 12", Gen2 (370 mm x 470 mm) < +/- 1 µm < +/- 250 nm