Sistema di litografia UV-NIL EVG®7300

La nuova soluzione multifunzionale di micro e nanoimprint di EV Group offre una flessibilità senza precedenti per la produzione di dispositivi ottici in grandi quantità EVG®7300 è la soluzione EVG più avanzata in grado di combinare più processi basati sui raggi UV, come la litografia nanoimprint (NIL), lo stampaggio di lenti e l'impilamento di lenti (UV bonding), in un'unica piattaforma Il sistema EVG®7300 SmartNIL® per nanoimprint e ottiche a livello di wafer è una soluzione versatile e avanzata che combina diverse capacità di processo basate sui raggi UV in un'unica piattaforma. EV Group (EVG), fornitore leader di apparecchiature per l'incollaggio dei wafer e la litografia per i mercati dei MEMS, delle nanotecnologie e dei semiconduttori, ha presentato oggi il sistema automatico SmartNIL® e ottico a livello di wafer EVG®7300. L'EVG7300 è la soluzione più avanzata dell'azienda che combina in un'unica piattaforma diverse funzionalità di processo basate sui raggi UV, come la litografia a nanoimprint (NIL), lo stampaggio di lenti e l'impilamento di lenti (UV bonding). Questo sistema multifunzionale, pronto per l'industria, è stato progettato per soddisfare le esigenze avanzate di ricerca e sviluppo e di produzione per un'ampia gamma di applicazioni emergenti che prevedono la micro- e la nano-patternatura e l'impilamento di strati funzionali. Tra queste, l'ottica a livello di wafer (WLO), i sensori ottici e i proiettori, l'illuminazione automobilistica, le guide d'onda per le cuffie a realtà aumentata, i dispositivi bio-medicali, le meta-lenti e le meta-superfici e l'optoelettronica. Grazie al supporto di wafer di dimensioni fino a 300 mm e all'allineamento ad alta precisione, al controllo di processo avanzato e all'elevata produttività, l'EVG7300 soddisfa le esigenze di produzione in grandi volumi di una varietà di componenti e dispositivi nano- e micro-ottici a forma libera e ad alta precisione.