Macchina per deposizione PECVD FALO

di film sottiliper applicazioni fotovoltaiche

È adatto alla crescita di allumina densa e di altri materiali di film di passivazione posteriore nel processo di batteria al silicio cristallino ad alta efficienza. Commutazione continua tra vari film; Supporto del meccanismo di spinta della barca ad entrambe le estremità per eliminare il jitter, migliorare la velocità, aumentare il carico e migliorare notevolmente l'affidabilità (brevetto). Il tempo di entrata e uscita dalla barca non deve superare i 20 secondi (escluse le operazioni di presa e rilascio della barca); Meccanismo a doppia porta del forno di forma speciale per ridurre la perdita di calore (struttura a doppia porta del forno brevettata); Tecnologia degli elettrodi della barca in grafite: elettrodi elettrici a contatto superficiale, elettrodi anteriori e posteriori integrati ed elettrodo di coda regolabile all'esterno del tubo del forno; Corpo del forno a raffreddamento rapido: viene adottata la più recente tecnologia brevettata, in modo che la temperatura del corpo del forno possa essere rapidamente ridotta alla temperatura richiesta e la velocità di raffreddamento possa essere aumentata di oltre il 25%, migliorando significativamente l'uniformità della temperatura nel tubo del forno; Modalità brevettata di dissipazione parallela del calore della posizione di stoccaggio della barca: migliora l'effetto di raffreddamento, accorcia il tempo di raffreddamento di oltre il 15%, evita il fondo e l'ingresso dell'aria dalla parte anteriore della console per migliorare la pulizia interna della console; Strumento ausiliario di sollevamento del tubo al quarzo, che riduce notevolmente le difficoltà di installazione, manutenzione e sostituzione del tubo al quarzo; La compattezza del film è superiore a quella del plasma indiretto; Ha un effetto di passivazione migliore rispetto all'ALD.