È adatto ai settori dei semiconduttori e del fotovoltaico. Per le celle del processo TOPCon nel settore fotovoltaico, l'apparecchiatura LPCVD può completare la preparazione dello strato di ossido tunnel/strato di poli in un'unica fase. La combinazione di ossigeno termico e deposizione di strato polimerico può aumentare notevolmente la capacità produttiva, pur essendo compatibile con il processo di crescita i/d-Poly.
Caratteristiche principali
Processo maturo ad alta capacità, tecnologia di controllo della temperatura a doppia modalità, tecnologia di protezione del calibro del film;
Con una varietà di tecnologie di rivestimento: film composito multistrato, tecnologia del polisilicio drogato;
Corpo del forno a raffreddamento rapido brevettato: La più recente tecnologia brevettata fa sì che la temperatura del corpo del forno scenda rapidamente alla temperatura richiesta e la velocità di raffreddamento può essere aumentata di oltre il 25%, migliorando ovviamente l'uniformità della temperatura nel tubo del forno;
Tecnologia di controllo ad anello chiuso a pressione adattativa veloce;
Sistema MES/CCRM con architettura completa e prestazioni eccezionali;
Computer industriale integrato + software di controllo del processo modulare;
Trattamento completo di sicurezza contro l'interruzione di corrente e protezione anomala dell'acqua della flangia.
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