Questa macchina è progettata per applicare uno strato di AlOx e SiNx sul lato posteriore dei wafer, che migliorerà il tasso di ricombinazione per aumentare l'efficienza delle celle, riducendo al minimo la luce ritrasmessa e massimizzando la riflessione della luce.
Specifiche
Alta produttività: 5.485 wafer/ora (640 wafer/barca)
Tempo di ciclo: 42 minuti
Tempo di attività: 97%
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