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Sistema di monitoraggio dei gas per il monitoraggio dei processi LG-100 Series
per rilevamentoper linea di produzioneper l'analisi

Sistema di monitoraggio dei gas per il monitoraggio dei processi - LG-100 Series - HORIBA STEC - per rilevamento / per linea di produzione / per l'analisi
Sistema di monitoraggio dei gas per il monitoraggio dei processi - LG-100 Series - HORIBA STEC - per rilevamento / per linea di produzione / per l'analisi
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Caratteristiche

Applicazioni tecniche
per il monitoraggio dei processi, per rilevamento, per linea di produzione, per l'analisi , per uso industriale

Descrizione

Panoramica
L'analizzatore di gas laser LG-100 Series esegue la misurazione in tempo reale delle variazioni di pressione parziale del tetrafluoruro di silicio (SiF4) prodotto durante i processi di incisione nella produzione di semiconduttori. Queste misurazioni consentono la rilevazione dell'endpoint e riducono il rischio di sotto- o sovra-incisione, migliorando produttività e resa.

Tecnologia e applicazione
La LG-100 Series integra la tecnologia di analisi dei gas a infrarossi IRLAM™ (Infrared Laser Absorption Modulation) di HORIBA. IRLAM consente misure ad alta sensibilità di gas in tracce a livelli di ppb con tempi di risposta di circa 0,1 s. L'analizzatore supporta l'analisi multicomponente e risposte rapide adatte ai processi di incisione per logica avanzata e ad applicazioni non plasma.

Caratteristiche chiave
  • Misurazione ad alta sensibilità e alta velocità dei componenti di scarico generati dai processi di incisione
  • Rilevazione dell'endpoint tramite variazioni nella composizione dei gas (monitoraggio SiF4)
  • Progettato per il monitoraggio di processi di incisione non plasma
  • IRLAM™ consente il rilevamento di gas in tracce a livello ppb con risposta ≈0,1 s

Benefici
Il monitoraggio in tempo reale della pressione parziale fornisce una rilevazione precisa dell'endpoint durante l'incisione, minimizzando sotto- e sovra-incisione e supportando una maggiore resa di produzione. L'analisi multicomponente rapida e sensibile risponde alle esigenze di controllo delle architetture 3D moderne e supporta diversi requisiti di processo.

Produttore / Classificazione
Azienda produttrice: HORIBA STEC, Co., Ltd.
Segmento: Semiconductor
Divisione: Dry Process Control

Caratteristiche / Specifiche tecniche
  • Gas misurato esempio: tetrafluoruro di silicio (SiF4) — monitoraggio della pressione parziale in miscele gassose
  • Principio di misura: Infrared Laser Absorption Modulation (IRLAM™)
  • Sensibilità: misurazione di gas in tracce a livello ppb (capacità IRLAM)
  • Tempo di risposta: circa 0,1 s
  • Applicazione principale: rilevazione in tempo reale dell'endpoint durante i processi di incisione
  • Funzionalità: analisi multicomponente, risposta rapida per il monitoraggio dei processi
  • Uso previsto: produzione di semiconduttori logici avanzati; applicazioni non plasma

Cataloghi

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* I prezzi non includono tasse, spese di consegna, dazi doganali, né eventuali costi d'installazione o di attivazione. I prezzi vengono proposti a titolo indicativo e possono subire modifiche in base al Paese, al prezzo stesso delle materie prime e al tasso di cambio.