Un modello di nanostruttura viene creato sulla superficie di lenti plano-convesse in silice fusa di alta purezza per produrre un effetto antiriflesso di alta qualità. Poiché questo processo di fabbricazione non utilizza materiali a film sottile, la lente ha un limite di soglia di danno molto alto.
-Alta resistenza ai danni del laser per applicazioni pulsate o CW
-Robusta dal punto di vista chimico e meccanico/resistente alla contaminazione
-Perdita di riflessione fino allo 0,1%
-Nessun assorbimento superficiale - ridotta lente termica
-Parametri del fascio migliorati e stabilità a lungo termine
Substrati di silice fusa UV per applicazioni UV, Laserline e a banda larga
La silice fusa di grado UV è biossido di silicio amorfo sintetico di purezza estremamente elevata che fornisce la massima trasmissione da 195 a 2100 nm. Questo vetro di silice non cristallino e incolore combina un coefficiente di espansione termica molto basso con buone qualità ottiche e un'eccellente trasmittanza nella regione ultravioletta. La trasmissione e l'omogeneità superano quelle del quarzo cristallino senza i problemi di orientamento e di instabilità termica inerenti alla forma cristallina. Non diventa fluorescente sotto la luce UV ed è resistente alle radiazioni. Per le applicazioni ad alta energia, l'estrema purezza della silice fusa elimina i siti di difetti microscopici che potrebbero portare a danni laser. Per ulteriori informazioni, fare riferimento alla nostra nota tecnica sui materiali ottici
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