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Sistema di movimentazione telecomandato NWL200
automatizzatocontrollabile tramite PCa comando elettrico

Sistema di movimentazione telecomandato - NWL200 - Nikon Metrology - automatizzato / controllabile tramite PC / a comando elettrico
Sistema di movimentazione telecomandato - NWL200 - Nikon Metrology - automatizzato / controllabile tramite PC / a comando elettrico
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Caratteristiche

Modo di funzionamento
automatizzato, a comando elettrico, controllabile tramite PC, telecomandato
Applicazioni prodotto
per attrezzatura di movimentazione
Altre caratteristiche
multiassiale, rapido
Applicazioni
per camera bianca, per semiconduttori
Altre caratteristiche
in acciaio inossidabile

Descrizione

Panoramica
La famiglia NWL200 fornisce trasferimento e gestione automatizzata di wafer da 6" (150 mm) e 8" (200 mm), con opzione per wafer ultra‑sottili fino a 100 µm. Progettata per integrazione con microscopi ottici e sistemi di misura video, la serie è pensata per alto throughput e movimentazione sicura nelle linee di ispezione in produzione.

Compatibilità e capacità generali
  • Supporta diametri wafer 6" (150 mm) e 8" (200 mm).
  • Si integra con i microscopi Nikon Eclipse L200N, LV150N e i sistemi NEXIV VMZ‑S.
  • Gestione standard di wafer da 300 µm e 200 µm; chuck opzionale per wafer ultra‑sottili da 100 µm.


Capacità chiave e movimentazione
  • Sistema multi‑braccio per carico/scarico rapido e preciso.
  • Elevatore rapido per cassette con centraggio non a contatto per un allineamento accurato.
  • Supporto ispezione macro: pattern lato anteriore, periferia posteriore e area centrale.
  • Velocità di rotazione e angolo di inclinazione programmabili (auto/manuale) per diverse attività di ispezione.
  • Il chuck a vuoto del braccio macro mantiene la presa in caso di interruzione di alimentazione per permettere il recupero sicuro del wafer.


Progettazione per sala bianca e anti‑contaminazione
Il flusso d'aria continuo nelle aree di bloccaggio e centraggio riduce la generazione di particelle. Il coperchio in acciaio inossidabile limita l'accumulo elettrostatico, a supporto dei requisiti di sala bianca.

Sicurezza e rilevamento wafer
  • Fasci e sensori rilevano wafer sottili deformati e interrompono la raccolta per prevenire collisioni.
  • Logiche di evitamento collisioni riducono il rischio di danni durante i trasferimenti.


Usabilità ed ergonomia
  • Pannello frontale orientato all'operatore: selezione wafer con un singolo pulsante, ampio LCD e menu strutturato per gestione ricette.
  • Posizionamento di carico e cambio cassette inclinato di 35° a sinistra per accesso ergonomico e maggiore efficienza operativa.


Operazioni remote e supporto
  • Lo strumento Remote Access Web Server consente connessione LAN via browser per creare, modificare e salvare le ricette di ispezione.
  • Scrittura e backup remoto delle ricette aiutano a mantenere continuità delle ispezioni e ottimizzare il flusso produttivo.


Specifiche tecniche
  • Diametri supportati: 6" (150 mm) e 8" (200 mm).
  • Spessori gestiti: standard 300 µm e 200 µm; chuck opzionale 100 µm ultra‑sottile.
  • Sistemi compatibili: Nikon Eclipse L200N, LV150N; NEXIV VMZ‑S.
  • Carico/scarico: trasferimento multi‑braccio, elevatore rapido cassette, centraggio non a contatto.
  • Modalità di ispezione: pattern lato anteriore, periferia posteriore, area centrale; rotazione e inclinazione regolabili (auto/manuale).
  • Controllo contaminazione: flusso d'aria continuo; coperchio in acciaio inox per riduzione carica elettrostatica.
  • Sicurezza: rilevamento wafer per evitare collisioni; chuck a vuoto mantiene la presa in caso di interruzione alimentazione.
  • Interfaccia operatore: selezione con pulsante, ampio LCD, gestione ricette; accesso web remoto per gestione e backup delle ricette.

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* I prezzi non includono tasse, spese di consegna, dazi doganali, né eventuali costi d'installazione o di attivazione. I prezzi vengono proposti a titolo indicativo e possono subire modifiche in base al Paese, al prezzo stesso delle materie prime e al tasso di cambio.