Macchina per deposizione PECVD PD-52 series

solare

Principalmente utilizzato per la generazione di rivestimenti antiriflesso di altissima qualità nella produzione di celle solari in silicio cristallino, e per la deposizione di film di passivazione sul lato posteriore delle celle solari. Barca di grafite e wafer pronti→ Ingresso dell'azoto→ Caricamento della barca di grafite→ Vuoto, test di pressione → Pre-pulizia e controllo dell'ammoniaca→ Vuoto del tubo, controllo delle perdite, temperatura costante→ Pre-rivestimento → Rivestimento→ Vuoto, test di pressione→ Pulizia del tubo e ingresso dell'azoto→ Scarico della barca di grafite. - Compatibile con il processo SiOxNy PERC. - Doppia tecnologia di sigillatura delle flange dell'acqua di raffreddamento. - Tecnologia di riscaldamento interno brevettata. - Meccanismo di spinta della barca del modulo integrale ad alta velocità. - Barca di grafite senza contatto con il tubo di quarzo. - Software MES con diritto di proprietà intellettuale indipendente. - Sistema CCC sviluppato in modo indipendente - Tecnologia di rivestimento veloce. - Protezione di allarme per surriscaldamento, rottura della termocoppia e collisione della barca.