Questa attrezzatura è utilizzata per la lucidatura, l'incisione e il trattamento di pulizia dei wafer diffusi ed è anche compatibile per la testurizzazione e il trattamento di pulizia delle celle solari bifacciali.
- Produttività: 400pcs/batch, 8000pcs/h.
- Compatibile con la lucidatura del lato posteriore dell'incisione e il processo di testurizzazione del lato posteriore monocristallino.
- Adatto a vari additivi.
- Spessore del wafer fino a 120um.
- Con area di lavaggio a secco e sistema di autopulizia.
- Cambio rapido del bagno in linea.
- Disponibile con MES, sistema RFID, test del peso in linea opzionale.
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