Macchina per deposizione PVD Multi950

PECVDper polverizzazione catodicasottovuoto

Orma compatta, Progettazione modulare standard, Flessibile, Affidabile, Camera ottale, struttura di porta 2 per buon accesso, Processi di PECVD + di PVD. Caratteristiche del progetto: 1. Flessibilità: L'arco ed i catodi farfugliare, flange di supporto di fonte di ione sono standardizzati per lo scambio flessibile; 2. versatilità: può depositare la varietà di metalli base e di leghe; rivestimenti ottici, rivestimenti duri, rivestimenti molli, film composti e film di lubrificazione solidi sui substrati metallici e non metallici dei materiali. 3. progettazione diretta: struttura di porta 2, parte anteriore & apertura posteriore per la manutenzione facile. La macchina Multi950 è un sistema su misura del deposito di vuoto di funzioni di multiplo per R & S. Con la discussione del mezzo anno con il gruppo dell'università di Shanghai al piombo dal professor Chen, infine abbiamo confermato la progettazione e le configurazioni per compiere il loro le applicazioni di R & S. Questo sistema può depositare il film trasparente di DLC con il processo di PECVD, i rivestimenti duri sugli strumenti ed il film ottico con farfugliare il catodo. Sulla base di questo concetto di progetto a macchina pilota, abbiamo messo a punto altri 3 sistemi del rivestimento dopo poi: 1. Rivestimento bipolare del piatto per i veicoli elettrici FCEV1213 di Fuel Cell, 2. ceramico diriga il rame placcato DPC1215, 3. sistema flessibile RTSP1215 farfugliare.