Macchina per deposizione PVD RTSP-1250
per polverizzazione catodica a magnetrondi film sottilidi pellicola metallizzata

Macchina per deposizione PVD - RTSP-1250 - Shanghai Royal Technology Inc. - per polverizzazione catodica a magnetron / di film sottili / di pellicola metallizzata
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Caratteristiche

Metodo
PVD
Tecnologia
per polverizzazione catodica a magnetron
Tipo di deposito
di film sottili, di pellicola metallizzata, per rivestimento in alluminio
Altre caratteristiche
sottovuoto, a catodi rotativi, a ciclo breve
Applicazioni
per l'industria microelettronica, per rivestimento di vetro, per specchio, per modulo fotovoltaico

Descrizione

Magnetron che farfuglia catodo: Cilindro o tipo planare; Alimentazione elettrica: CC di impulso, MF, rf Fonte di ione: generalmente per parti di vetro/ceramiche/metallo della plastica/per incandescenza che scarica, pulizia del plasma. Alimentazione elettrica diagonale: lavora soltanto ai pezzi da lavorare conduttivi: acciaio, ferro, lega d'acciaio, zamak, lega di alluminio, ottone ecc. Pacchetto del pulsometro: La pompa a palette rotatoria, pompa del pistone rotante, pianta la pompa, la pompa di diffusione/pompa molecolare di turbo, tenente la pompa ecc. Altri: Gate le valli/vacuometri, il MFC, i montaggi di vuoto e la linea stridente di vuoto, alimentazione da parte a parte, 3. L'attrezzatura del rivestimento di serie di RTSP è utilizzata per la produzione dei rivestimenti funzionali conduttivi e non conduttivi, scopo estetico. A. Applications: Rivestimenti di ITO su vetro per i touch screen, esposizioni; vetro architettonico; industria automobilistica: ruote & orli di automobile, specchi di automobile, lampade cape, luci della coda, interno di plastica & esterni; stoviglie & articolo da cucina, gioielli, sport e giocattoli, sostituzione acqua placcante. B. materiali di rivestimento: Metalli: Ti (titanio), cromo del Cr), Zr (zirconio), Cu (rame), Al (alluminio), Ni (nichel), SUS316 (acciaio inossidabile)… Leghe del metallo: Lega di Ti-Al, lega di Ni-CA (al cadmio-nichel), ITO (ossido di stagno dell'indio) Metodi di C. Sputtering: DC/MF/RF D. Feature: deposito a bassa temperatura

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* I prezzi non includono tasse, spese di consegna, dazi doganali, né eventuali costi d'installazione o di attivazione. I prezzi vengono proposti a titolo indicativo e possono subire modifiche in base al Paese, al prezzo stesso delle materie prime e al tasso di cambio.