Colla epossidica DM-6109
per vetromonocomponentea polimerizzazione calore

colla epossidica
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Caratteristiche

Componenti chimici
epossidica
Substrato
per vetro
Numero di componenti
monocomponente
Caratteristiche tecniche
a polimerizzazione calore, resistente ai prodotti chimici
Applicazioni
per imballaggi, per riempimento
Temperatura di utilizzo

80 °C
(176 °F)

Tempo di polimerizzazione

Min.: 5 min

Max.: 10 min

Descrizione

DeepMaterial offre nuovi flussi capillari sottocolli per flip chip, csp e dispositivi BGA. I nuovi elementi del flusso capillare di Deepmaterial sono elevati materiali di fluidità, elevata purezza, materiali da invasatura monocomponente che formano strati uniformi, privi di vuoto che migliorano l'affidabilità e le proprietà meccaniche dei componenti eliminando lo stress causato dai materiali di saldatura. DeepMaterial fornisce formulazioni per il riempimento rapido di parti di pitch molto fine, funzionalità di cura veloce, lunga durata e durata della vita, nonché la rielaborabilità. La rielaborabilità consente di risparmiare sui costi consentendo la rimozione del sottocolto per il riutilizzo della scheda. L'assemblaggio del chip flip richiede nuovamente il rilievo dello stress della cucitura di saldatura per l'invecchiamento termico e la vita del ciclo esteso. L'assemblaggio CSP o BGA richiede l'uso di un sottocolto per migliorare l'integrità meccanica del gruppo durante il test flessibile, vibrazione o goccia. È una resina epossidica termica idromassaggio monocomponente. Questo prodotto è adatto per la polimerizzazione a bassa temperatura e ha una buona adesione a una varietà di materiali in un tempo molto breve. Le applicazioni tipiche includono la scheda di memoria, il gruppo CCD / CMOS. È particolarmente adatto per applicazioni in cui è richiesta una temperatura di polimerizzazione bassa per i componenti sensibili al calore.

Cataloghi

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