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Macchina per pulizia a immersione RCA
automaticaper wafer

Macchina per pulizia a immersione - RCA - Shenzhen S.C New Energy Technology Corporation - automatica / per wafer
Macchina per pulizia a immersione - RCA - Shenzhen S.C New Energy Technology Corporation - automatica / per wafer
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Caratteristiche

Tecnologia
a immersione
Modo di funzionamento
automatico
Applicazioni
per wafer

Descrizione

· Capacità produttiva: 400 pezzi/lotto, 9600 pezzi/ora (wafer da 210 mm); 480 pezzi/lotto, 12000 pezzi/ora (wafer da 182 mm). · Sono disponibili diverse tecnologie di additivazione. · Spessore del wafer fino a 120 μm. · Dotato di area di pulizia a secco e sistema autopulente. · Cambio rapido del bagno in linea. · Disponibile con MES, sistema RFID e controllo del peso in linea opzionale.

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* I prezzi non includono tasse, spese di consegna, dazi doganali, né eventuali costi d'installazione o di attivazione. I prezzi vengono proposti a titolo indicativo e possono subire modifiche in base al Paese, al prezzo stesso delle materie prime e al tasso di cambio.