· Linea di produzione a doppio binario: il rack e le parti elettriche sono completamente indipendenti e non interferiscono tra loro durante il funzionamento.
· Elevata produttività: in linea con quella del processo di serigrafia, con un tempo di ciclo (CT) ≤ 0,80 s, sulla base di wafer di silicio di dimensione M10 (18 × ±0,5 mm × 18 × ±0,5 mm).
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