Macchina per deposizione CVD
di film sottiliad alta precisionein linea

Macchina per deposizione CVD - Socrate Industrie - di film sottili / ad alta precisione / in linea
Macchina per deposizione CVD - Socrate Industrie - di film sottili / ad alta precisione / in linea
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Caratteristiche

Metodo
CVD
Tipo di deposito
di film sottili
Altre caratteristiche
ad alta precisione, in linea, robotizzata
Applicazioni
per l'industria microelettronica

Descrizione

Presentazione
Sistema di deposizione di ossidi tramite CBVD per il trattamento di wafer da 2 a 18 pollici. Progettato per eseguire la crescita controllata di strati ossidati con monitoraggio in tempo reale e funzionamento completamente automatizzato. Compatibile con wafer fino a Ø450 mm.

Gamma
Gamma di macchine Sybilla.

Caratteristiche principali
  • Tecnologia CBVD sviluppata con il nostro partner 3D Oxides
  • Uniformità di deposizione su wafer fino a Ø450 mm
  • Monitoraggio in tempo reale per mantenere le condizioni di crescita
  • Processo completamente automatizzato
  • Progettato per wafer da 2 a 18 pollici
  • Immagini e visualizzazione del prodotto disponibili (fotografie della gamma Sybilla)

Documentazione
Documentazione tecnica disponibile (file PDF specifico per la macchina Oxides).

Caratteristiche / specifiche tecniche
  • Tecnologia: CBVD (Chemical Beam Vapor Deposition)
  • Partner tecnico: 3D Oxides
  • Gamma wafer compatibili: 2 a 18 pollici
  • Uniformità target: fino a Ø450 mm
  • Controllo: monitoraggio in tempo reale dei parametri di crescita
  • Automazione: processo completamente automatizzato
  • Gamma: Sybilla
  • Anno di riferimento: 2026 (sviluppo della gamma)

Cataloghi

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* I prezzi non includono tasse, spese di consegna, dazi doganali, né eventuali costi d'installazione o di attivazione. I prezzi vengono proposti a titolo indicativo e possono subire modifiche in base al Paese, al prezzo stesso delle materie prime e al tasso di cambio.