Sorgente di polverizzazione ionica

Sorgente Ionica RF 16cm Sorgente ionica RF ampia e uniforme per processi altamente reattivi Veeco offre un'ampia sorgente di fascio ionico uniforme per processi reattivi, come l'assistenza al fascio ionico o la deposizione di rivestimenti ottici altamente controllati. Supporta un'ampia gamma di operazioni: Da 50 a 1500eV e da 75 a 700mA Funzionamento affidabile e uniforme sia in ambienti inerti che ossidanti Raffreddamento ad acqua - Per un funzionamento a bassa e alta potenza Il design opzionale a quattro griglie offre una collimazione molto elevata È dotato dell'unico Neutralizzatore RF senza filamentless del settore, che garantisce una bassa manutenzione e consente lunghe tirature di produzione Il funzionamento stabile ed efficiente del plasma consente un controllo preciso e un'elevata ripetibilità Adatto sia ai processi di produzione a lotti che a carico bloccato