Sorgente di ioni RF

Sorgente Ionica RF 12cm Progettato per migliorare la produzione di processi di deposizione di fasci ionici a lunga durata Migliora le prestazioni e la qualità dei processi reattivi lunghi e ininterrotti come l'assistenza al fascio ionico o la deposizione di rivestimenti ottici altamente controllati, con la sorgente ionica RF Veeco da 12 cm. È dotato dell'unico Neutralizzatore RF senza filamenti del settore, che garantisce una bassa manutenzione e consente lunghe tirature di produzione. La Sorgente Ionica RF da 12 cm è ideale per processi che utilizzano il 100% di argon, ossigeno o altri gas reattivi. Supporta un'ampia gamma di operazioni: Da 50 a 1500eV e da 50 a 500mA Funzionamento affidabile e uniforme sia in ambienti inerti che ossidanti Raffreddamento ad acqua - Funzionamento a bassa o moderata potenza Il funzionamento stabile ed efficiente del plasma consente un controllo preciso e un'elevata ripetibilità Adatto sia ai processi di produzione a lotti che a carico bloccato