L'alimentatore ad alta tensione EBL di Wisman è progettato per applicazioni di precisione con fascio di elettroni, come la nanolitografia dei semiconduttori, la microottica e il lavoro con le maschere di sviluppo. Presenta un'ondulazione bassissima e specifiche di stabilità eccellenti, molto adatte ad applicazioni con requisiti molto severi. Fornisce una gamma selezionabile di corrente di uscita bassa e alta.
La parte ad alta tensione dell'incapsulamento solido elimina qualsiasi problema di manutenzione da parte dell'utente, isolando i componenti dalle variabili ambientali. Il dispositivo è completamente protetto da sovraccarico, arco e cortocircuito. Fornisce funzioni di programmazione e monitoraggio con controllo remoto. Consente un'accurata misurazione passiva dell'uscita ad alta tensione. USB2.0, porta di rete, comunicazione digitale RS-232 e RS485 opzionali, personalizzabili in base alle esigenze dell'utente.
APPLICAZIONE TIPICA
Micro-ottica
Litografia dei semiconduttori
Macchina per l'esposizione dei semiconduttori
Maschera
SPECIFICA
Tensione di ingresso:
Interruttore opzionale
Regolazione della tensione: ±0,001% della tensione nominale entro l'intervallo di tensione di ingresso specificato
Regolazione del carico:
≤20V, variazioni di corrente da 25μA a 60μA e da 60μA a 25μA
ondulazione: Valore da picco a picco≤70mV
Microscarica ad alta tensione: Meno di 200mV
stabilità: Dopo 6 ore di preriscaldamento, 0,001% ogni 8 ore, la temperatura è 20℃±0,2℃
Coefficiente di temperatura: 25ppm per grado Celsius nell'intervallo da 10°C a 40°C
Ambiente:
Temperatura di esercizio: da 0 a 40 gradi Celsius
Temperatura di stoccaggio: da -40 a 85 gradi Celsius
Umidità: dal 10 al 90% RH, senza condensa
Raffreddamento: Raffreddamento a convezione
Pannello frontale:
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